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學(xué)術(shù)信息

【材華講壇】核用高熵合金的研究現(xiàn)狀及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)

發(fā)布時(shí)間:2021-01-14瀏覽次數(shù):5106發(fā)布者:劉曉來(lái)源:南京航空航天大學(xué)

報(bào)告題目:核用高熵合金的研究現(xiàn)狀及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)

報(bào) 告 人:盧晨陽(yáng)

報(bào)告時(shí)間:2021年1月15日13:00-13:40

報(bào)告地點(diǎn):將軍路校區(qū)1號(hào)樓10527

主辦單位:校科協(xié)、材料科學(xué)與技術(shù)學(xué)院

報(bào)告人簡(jiǎn)介:

盧晨陽(yáng),教授/博導(dǎo),西安交通大學(xué)核科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,國(guó)家級(jí)青年人才,科技部重點(diǎn)研發(fā)課題負(fù)責(zé)人,中國(guó)核學(xué)會(huì)輻照效應(yīng)分會(huì)常務(wù)理事,《Tungsten》雜志編委。2014年畢業(yè)于東北大學(xué)獲材料學(xué)博士學(xué)位,2014-2018年在密西根大學(xué)核工程與放射科學(xué)系先后從事博士后和助理研究員工作,于2018年底全職加入西安交通大學(xué)。主要研究方向包括先進(jìn)核結(jié)構(gòu)材料制備、材料中的輻照損傷,以及材料微觀結(jié)構(gòu)的先進(jìn)表征等。共發(fā)表SCI論文40余篇,其中包括4篇NatureCommunications,4篇ActaMaterialia, 11篇Journalof Nuclear Materials及其它多篇具有領(lǐng)域影響力的相關(guān)論文,ESI高被引論文3篇,文章總引用1900余次,H因子22。多篇論文被國(guó)際多家國(guó)際主流媒體獨(dú)立報(bào)道并正面評(píng)價(jià),其中包括三大通訊社之一的合眾聯(lián)合社(UPI),以及NEISmartbrief和Phys.org。2013年在電子顯微鏡和電子顯微分析國(guó)際大會(huì)上獲得美國(guó)顯微鏡學(xué)會(huì)頒發(fā)的總統(tǒng)學(xué)者獎(jiǎng)。擔(dān)任ActaMaterialia,Scripta Materialia, International Journal ofPlasticity, Journal of Nuclear Materials, Journal of alloys and compounds等金屬材料及核材料領(lǐng)域主流雜志審稿人。

報(bào)告摘要:

傳統(tǒng)反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)材料難以在高溫和高輻照劑量的環(huán)境下服役,亟需開(kāi)發(fā)新型抗輻照材料。高熵合金因其優(yōu)異的高溫力學(xué)性能及抗輻照性能,被認(rèn)為是有潛力的未來(lái)第四代反應(yīng)堆結(jié)構(gòu)材料。通過(guò)對(duì)合金進(jìn)行主元調(diào)控,延緩輻照缺陷的聚集演化,大幅降低輻照腫脹,是高熵合金作為抗輻照結(jié)構(gòu)材料的顯著優(yōu)勢(shì)。目前針對(duì)高熵合金開(kāi)展了一系列載能粒子(包括電子、離子和中子)的輻照實(shí)驗(yàn),揭示了輻照下主元特征(包括數(shù)目、種類和濃度等)對(duì)高熵合金微觀結(jié)構(gòu)和性能演化的影響。現(xiàn)有研究結(jié)果表明,通過(guò)調(diào)控輻照下的能量耗散過(guò)程以及缺陷的形成能和遷移能,總體上化學(xué)復(fù)雜度較高的高熵合金輻照缺陷演化趨勢(shì)有所減弱,尤其是間隙原子型缺陷團(tuán)簇尺寸下降,在高溫輻照下對(duì)孔洞以及氦泡的形成也有顯著抑制。近期又在高熵合金中引入傳統(tǒng)輻照合金的設(shè)計(jì)理念,添加晶界、位錯(cuò)和納米析出相等缺陷陷阱能夠更進(jìn)一步提高材料的抗輻照性能。但是,目前高熵合金研究依然處于初期階段,還存在很多問(wèn)題。一是研究的對(duì)象大多還是含有高活化元素的fcc體系合金,二是高熵合金的抗輻照機(jī)理還不夠清晰,三是嚴(yán)重缺乏中子輻照實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。因此未來(lái)應(yīng)著重研究由低活化元素組成的bcc體系合金,并開(kāi)展中子輻照實(shí)驗(yàn)。通過(guò)實(shí)驗(yàn)結(jié)合多尺度模擬深入探究高熵合金抗輻照性能的內(nèi)在機(jī)理,為后續(xù)設(shè)計(jì)新型抗輻照高熵合金材料奠定基礎(chǔ)。


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